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碳化硅整流橋技術引領高壓高效能新時代

發(fā)布時間:

2025-04-24


引言:碳化硅技術賦能電力電子革新

隨著電力電子設備向高壓、高頻、高溫環(huán)境快速演進,傳統(tǒng)硅基整流橋已難以滿足嚴苛的性能需求。作為國內(nèi)領先的功率器件供應商,廣東佳訊電子有限責任公司憑借自主研發(fā)的碳化硅整流橋與碳化硅軟橋技術,成功突破材料與工藝瓶頸,為工業(yè)電源、新能源、航空航天等領域提供高效可靠的解決方案。

 

技術優(yōu)勢:碳化硅整流橋的革新突破

1. 耐高壓與高溫,性能遠超傳統(tǒng)硅基產(chǎn)品

佳訊電子碳化硅整流橋(如RHBL10010系列)采用4H型單晶碳化硅外延層設計,基區(qū)漸變P+-N-N+結構顯著提升耐壓能力(支持1200V以上高壓),同時耐高溫特性(結溫可達300℃以上)確保器件在極端環(huán)境下穩(wěn)定運行。相較于傳統(tǒng)硅基產(chǎn)品,其反向泄漏電流降低10倍,正向壓降更低,效率提升高達30%。

2. 多層封裝與散熱創(chuàng)新,保障高可靠性

結合鐵鎳鈷合金邊框碳化鋁陶瓷片的封裝設計,通過釬焊工藝固定銅鉬銅片與芯片,優(yōu)化散熱路徑。配合真空焊接曲線與納米銀膏焊接技術,實現(xiàn)耐高溫(400℃)、低熱阻(50℃/W)的穩(wěn)定連接,有效降低芯片結溫,延長器件壽命。

 

3. 動態(tài)性能卓越,抑制浪涌與振蕩

基于夾阻整流器(PBR)結構,通過類似JFET的通道調節(jié)勢壘,避免傳統(tǒng)肖特基二極管的界面問題。結合PECVD多層膜技術,反向恢復時間縮短至350ns以下,浪涌電流抑制能力提升10倍,完美適配高頻開關電源與移相全橋變換器需求。

 

創(chuàng)新工藝:佳訊的核心競爭力

 

1. 鍍層處理與釬焊工藝

金屬部件采用鋅-錫-金多層鍍層,耐腐蝕性提升50%;釬焊工藝確保組件在260℃高溫下的機械穩(wěn)定性,符合J-STD-020標準。

 

2. 閃燒技術與快速燒結

通過PyC橋構建碳化硅顆粒間導電通道,60秒內(nèi)完成燒結,孔隙率降至14.79%,顯著降低焦耳熱損耗。

 

3. 鎢絲犧牲保護機制

在高速整流橋中集成鎢絲熔斷保護,過流時快速切斷電流通路,搭配導電膠實現(xiàn)毫秒級響應,保障系統(tǒng)安全。

 

 

 

 

展望:持續(xù)引領碳化硅技術前沿

 

廣東佳訊電子深耕碳化硅領域,未來將聚焦碳化硅軟橋技術研發(fā),進一步優(yōu)化高頻場景下的動態(tài)損耗與EMI性能。同時,拓展閃燒技術在航天器耐高溫部件修復中的應用,助力國產(chǎn)高端裝備自主化進程。

 

選擇佳訊,選擇高效與可靠!

 

(本文為廣東佳訊電子有限責任公司原創(chuàng),轉載請注明出處)

關鍵詞:

碳化硅整流橋,碳化硅,整流橋

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